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ZnO退火缓冲层在Al2O3衬底上增长的外延膜的增强特性和结构特性

来源：doc163.com 资料编号：DC9448 文件类型：资料等级： %E8%B5%84%E6%96%99%E7%BC%96%E5%8F%B7%EF%BC%9ADC9448

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资料介绍：

ZnO退火缓冲层在Al2O3衬底上增长的外延膜的增强特性和结构特性(中文2700字,英文pdf)
摘要
通过使用射频磁控溅射，在有无ZnO缓冲层的条件下，在Al2O3（1000）衬底上生长ZnO薄膜。原子力显微镜图像显示，真空中退火，在ZnO缓冲层表面生长的ZnO薄膜表面粗糙度降低，反映了ZnO薄膜表面的改进。X射线衍射图表明在缓冲层上生长的ZnO薄膜通过退火后的结晶性比在无缓冲层生长的ZnO薄膜的结晶性要高。ZnO薄膜表面和结构性能的改进是由于在真空中退火形成的Zn面ZnO缓冲层。这些结果表明在Al2O3衬底上生长的ZnO薄膜表面和结构性能的提高是由于使用缓冲层在真空中退火。

关键词：ZnO外延；退火后的ZnO缓冲层；表面属性；结构特性；极性

[来源：http://Doc163.com]

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